在发布最新财务报告期间,AMSL透露其EUV客户已经订购了新一代设备。 具体来说,紧随英特尔和TSMC之后的是三星、SK海力士、美光等。还订购了高钠EUV光刻机。 高NA EUV掩模对准器允许以更高的生产效率加工更精密的半导体芯片,并且它也是2nm和更高级工艺的必要条件。 据韩国设备供应商透露,目前EUV光刻机的订单价格为2000-3000亿韩元,而高NA EUV光刻机的价格翻了一番,达到5000亿韩元(约合人民币26亿元)。 据了解,在第三季度财报中,ASML实现净销售额58亿欧元,毛利率51.8%,净利润17亿欧元。该公司预计第四季度的净销售额将在61亿至66亿欧元之间。 首席执行官Peter Wennink第三季度销售额达到创纪录的89亿欧元,其中包括38亿欧元的EUV设备销售额。 免责声明:该文章系本站转载,旨在为读者提供更多信息资讯。所涉内容不构成投资、消费建议,仅供读者参考。 |